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打磨抛光(guāng)機(jī)的(de)工(gōng)作(zuò)原理(lǐ)

信息來(lái)源于:互聯網 發布于:2021-04-29

 打磨抛光(guāng)機(jī)在操作(zuò)的(de)過程中最關鍵的(de)是要能夠得到最大的(de)抛光(guāng)速度,目的(de)是能夠更加快速的(de)去(qù)除在磨光(guāng)時(shí)産生(shēng)的(de)損傷表層。

同時(shí)也要使抛光(guāng)損傷的(de)表層不會對(duì)最後觀察到組織産生(shēng)影響,所以在品質好(hǎo)的(de)抛光(guāng)機(jī)的(de)工(gōng)作(zuò)過程中要使用比較粗的(de)磨料,這(zhè)樣做可以保證比較大的(de)抛光(guāng)速度去(qù)除磨光(guāng)的(de)損傷表層,但(dàn)是這(zhè)麽做也有(yǒu)一個(gè)缺點那(nà)就是抛光(guāng)損傷曾比較深;而如果用比較細的(de)材料雖然可以使抛光(guāng)損傷表層比較淺,但(dàn)是相(xiàng)對(duì)應的(de)這(zhè)一種抛光(guāng)的(de)速度就要慢(màn)得多。

解決這(zhè)個(gè)矛盾點的(de)方法就是把抛光(guāng)的(de)操作(zuò)分成兩個(gè)部分組成,首先用粗的(de)材料進行抛光(guāng),這(zhè)麽做就是首先去(qù)除磨光(guāng)的(de)損傷層,這(zhè)一個(gè)的(de)階段應該具有(yǒu)最大的(de)抛光(guāng)速度,雖然會産生(shēng)比較深的(de)抛光(guāng)損傷,但(dàn)是可以在第二個(gè)環節也就是精抛進行抛光(guāng),使得表面變得更加光(guāng)滑。
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